A SKIN1004 Madagascar Centella Hyalu-Cica Hydrating Mask é uma máscara facial coreana concebida para oferecer hidratação profunda e reforçar a barreira cutânea.
SKIN1004
Formulada com 8 tipos de Ácido Hialurónico, Extrato de Centella Asiática e Ceramidas, ajuda a reter a humidade, acalmar a pele e deixá-la mais flexível e suave.
É vegana, cruelty-free e contém ingredientes seguros para um cuidado delicado e respeitador da pele.
Ideal para peles secas, normais, mistas ou sensíveis que necessitam de hidratação extra.
Benefícios principais:
Hidratação intensa em várias camadas para efeito duradouro.
8 tipos de Ácido Hialurónico que preenchem e hidratam profundamente.
Centella Asiática que acalma e fortalece a barreira cutânea.
Ceramidas e Esqualano para prevenir a perda de humidade.
Lâmina tipo water-jelly, leve e refrescante, que se adere confortavelmente.
Fórmula em essência aquosa, de rápida absorção, sem deixar sensação pegajosa.
Modo de utilização:
Após a limpeza, aplica tónico para preparar a pele.
Coloca a máscara, evitando olhos e lábios.
Deixa atuar 10–20 minutos.
Retira a máscara e massaja suavemente para ajudar à absorção do sérum restante.
Dica Ritual Skin: Para potencializar hidratação, combina com o SKIN1004 Madagascar Centella PHA & Hyaluronic Toner antes da máscara.
Modo de utilização:
Após a limpeza, aplicar tónico para preparar a pele.
Colocar a máscara, evitando a zona dos olhos e lábios.
Deixar atuar entre 10 e 20 minutos.
Retirar e massajar suavemente para ajudar à absorção do sérum restante.
Conteúdo:
1 máscara – 23 ml
SKIN1004